哈佛大学、杜克大学和纽约大学的研究人员22日公布的国际专利申请情况分析报告显示，全美2006年提交的专利申请中，有25.6%是外国公民的贡献，主要是中国人和印度人。但是因为在申请在美永久居留权时遇到障碍，他们当中的数千人已经回国。
参与此项研究的印度裔专家维维克-瓦德瓦称：“到目前为止，美国仍是吸引全球顶尖人才的受益者。现在，因为移民政策有缺失，造成大量高层次专业人才离开美国，这些人在我们的科技、技术和市场上得到锻炼，价值已经更高。这是美国损失中的损失。我们的公司失去了可以带来创新和竞争力的人才，而且我们创造了自己潜在的竞争对手。”
研究报告没有讲具体多少人才返回了中国和印度，但是说“大约五分之一新的合法移民和三分之一的高级雇员或者计划离开美国，或者在持观望态度。”
据估计，大约有100万高层次人才处在“移民不稳定状态”，还有报道称已经从美国返回的印度移民大约在3.5万到6万之间。维维克称：“美国历史上第一次遇到了逆向人才流失。如果美国需要高层次移民，我们应该把他们留在这里，而不是把他们当临时工使。”
研究发现，2006年来自美国的专利申请中，有16.8%的发明人或联合发明人是华人，印度人也占到了13.7%。
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